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에너지원별 주요 특허

특허명 중국) Back contact solar cell and method for manufacturing same
국가 [중국]  출원인 LONGI GREEN ENERGY TECHNOLOGY CO., LTD.
우선권 번호 - 우선일 -
출원번호 AU 2026200861 출원일 2026.02.05
등록번호 AU 2026200861 B2 특허 등록일 2026.04.16
패밀리특허 WO2025/130305 A1, US 12593532 B2, JP 2026-501501 A, EP 4600993 A1, CN 118969870 A, CN 117637876 B, AU 2026200861 B2, AU 2025242215 B2, AU 2024335458 B2 IPC H10F-010/10
산업구분 [태양에너지]  등록일 2026.04.27
요약 본 출원은 후면 접점 태양전지 및 그 제조 방법을 공개하며, 후면 접점 태양전지의 후면 표면에서 빛의 이용률을 높여 후면 접점 태양전지의 광전 변환 효율을 향상시키는 데 기여하는 태양광 기술 분야와 관련된다. 본 후면 접점 태양전지는 실리콘 기판과, 실리콘 기판의 후면 표면 일부 영역에 형성된 제1 도핑 반도체 층을 포함한다. 실리콘 기판의 후면 표면에서 제1 도핑 반도체 층에 대응하는 영역은 제1 영역으로 정의되고, 나머지 영역은 제2 영역으로 정의된다. 제1 영역과 제2 영역은 교대로 분포되어 있다. 제2 영역에는 제1 영역의 표면에 비해 실리콘 기판 안쪽으로 오목하게 들어간 홈 구조가 형성된다. 제2 영역에 인접한 제1 도핑된 반도체 층의 끝부분은 공중에 떠 있는 형태로 배치된다. 상기 후면 접점 태양전지를 제조하기 위해 후면 접점 태양전지 제조 방법이 사용된다.
특허 원문 발췌
제목 :
중국) Back contact solar cell and method for manufacturing same
독립항 :
A back contact solar cell, comprising: a silicon substrate, and a first doped semiconductor layer formed on a partial region on a back surface of the silicon substrate, wherein
a region corresponding to the first doped semiconductor layer in the back surface of the silicon substrate is defined as a first region, and a remaining region is defined as a second region; the first region and the second region are alternately distributed; a groove structure concaving inward the silicon substrate relative to a surface of the first region is formed on the second region; and an end portion of the first doped semiconductor layer adjacent to the second region is arranged in a suspended manner;
the back contact solar cell further comprises a second doped semiconductor layer formed on the groove structure, and a conductivity type of the second doped semiconductor layer is opposite to a conductivity type of the first doped semiconductor layer; and
the groove structure further comprises a gap between the first doped semiconductor layer and the second doped semiconductor layer along an arrangement direction of the first region and the second region, and a side wall close to the second doped semiconductor layer; the second doped semiconductor layer does not extend beyond a groove bottom of the groove structure, and no part of a surface of the second doped semiconductor layer is suspended at the side wall.
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