에너지원별 주요 특허
| 특허명 | 중국) Back contact solar cell and method for manufacturing the same | ||
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| 국가 | [중국] | 출원인 | Longi Green Energy Technology Co., Ltd.(CN) |
| 우선권 번호 | CN 202410111957 | 우선일 | 2024.01.26 |
| 출원번호 | EP 2024-196347 | 출원일 | 2024.08.26 |
| 등록번호 | EP 4593555 B1 | 특허 등록일 | 2026.03.11 |
| 패밀리특허 | WO 2025/130118 A1, US 2025-0248132 A1, JP 2025-143404 A, JP 7709582 B1, IN 202517037402 A, EP 4593555 B1, CN 118507552 A, CN 117637874 B, AU 2025210840 B2, AU 2024347763 B2 | IPC | H10F-010/14 H10F-071/00 H10F-077/20 | 산업구분 | [태양에너지] | 등록일 | 2026.03.30 |
실리콘 기판; 제1 도핑된 반도체 층에 대응하는 제1 영역, 제2 도핑된 반도체 층에 대응하는 제2 영역, 및 상기 제1 영역과 상기 제2 영역 사이에 배치된 스페이서 영역을 포함하는 상기 실리콘 기판의 후면; 및 상기 스페이서 영역의 표면이 상기 실리콘 기판 내로 리세스되고, 상기 제1 영역의 표면에 대한 상기 실리콘 기판 내로의 상기 리세싱의 깊이는 3000 nm 미만인, 후면 접촉 셀. 특허 원문 발췌
제목 :
중국) Back contact solar cell and method for manufacturing the same 독립항 :
A back contact solar cell, comprising: a silicon substrate (11), and a first doped semiconductor layer (12) and a second doped semiconductor layer (13) alternately distributed at intervals on a back surface of the silicon substrate (11), wherein a conductivity type of the first doped semiconductor layer (12) is opposite to a conductivity type of the second doped semiconductor layer (13); and in the back surface of the silicon substrate (11), regions corresponding to the first doped semiconductor layer (12) are defined as first regions (14), regions corresponding to the second doped semiconductor layer (13) are defined as second regions (15), and a region located between each first region (14) and a second region (15) adjacent to the first region (14) is defined as an isolation region (16), wherein a plurality of isolation regions (16) are provided; and a side surface of each of the first doped semiconductor layer (12) and the second doped semiconductor layer (13) close to the isolation region (16) is wave-shaped, characterized in that a fluctuation amplitude corresponding to the side surface of the second doped semiconductor layer (13) close to the isolation region (16) is greater than a fluctuation amplitude corresponding to the side surface of the first doped semiconductor layer (12) close to the isolation region (16), and/or a fluctuation frequency corresponding to the side surface of the second doped semiconductor layer (13) close to the isolation region (16) is less than a fluctuation frequency corresponding to the side surface of the first doped semiconductor layer (12) close to the isolation region (16). |
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| 원문 링크 |
https://worldwide.espacenet.com/patent/search/family/090030800/publication/EP4593555B1?q=EP%204593555%20B1
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