에너지뉴스
| 제목 | 독일) 프라운호퍼 ISE, 갈륨 도핑 실리콘 웨이퍼의 LeTID 예측 위한 동역학 기반 모델 개발 | ||
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| 국가 | [독일] | 출처 | PV Magazine |
| 산업구분 | [태양에너지] | 등록일 | 2025.09.02 |
| 구분 | 기술 | ||
독일 프라운호퍼 태양에너지시스템연구소가 갈륨 도핑 실리콘 웨이퍼의 빛 및 고온 유도 열화(LeTID)를 예측하기 위해 일시적 회복 효과의 동역학을 반영한 파라메트릭 모델을 개발하고, 다양한 온도와 소수 전하 캐리어 밀도 조건에서 수명 변화와 억제 메커니즘을 정량적으로 설명함 기사 원문 발췌
제목 :
New model for LeTID prediction in gallium doped silicon wafers 발췌 내용 :
Researchers at Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems in Germany developed a predictive model for light and elevated temperature induced degradation in gallium-doped silicon wafer that includes the effects of temporary recovery.
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| 원문 링크 |
https://www.pv-magazine.com/2025/09/01/new-model-for-letid-prediction-in-gallium-doped-silicon-wafers/
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